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湿法刻蚀工艺研发||WET Process(TD)
15000-26000元 武汉洪山区 应届毕业生 硕士
长江存储科技有限责任公司 2024-05-22 23:55:35
人关注
湿法刻蚀工艺研发||WET Process(TD)
15000-26000元 武汉洪山区 应届毕业生 硕士
长江存储科技有限责任公司 2024-05-22 23:55:35
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职位描述
该职位还未进行加V认证,请仔细了解后再进行投递!
职责描述: Take responsibility for WET ETCH process development to achieve new product requirement. 1. Focuses on wet etch research and recipe development. 2. Optimize baseline process to improve product’s performance and yield. 3. Understand the semiconductor industry’s road map, evaluate advance tool, new material and process, give proposal after evaluation and qualify on schedule. 4. Investigate and dispose the process abnormity, root cause identified and fixed, reduce fail rate. 5. Wet etch process routine maintenance and monitor. 6. New engineers on job training 任职要求: 1. 3 years above work experience in semiconductor process. Advanced WET processes and/or 3D NAND experience is preferred. 2. Master degree or above. Majored in microelectronics, physics, chemistry, or material science/engineering.
联系方式
注:联系我时,请说是在今日招聘网上看到的。
工作地点
地址:武汉洪山区武汉东湖新技术开发区未来三路88号
以担保或任何理由索取财物,扣押证照,均涉嫌违法,请提高警惕

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