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刻蚀工艺研发|| Etch Process (TD)(J11275)
15000-26000元 武汉洪山区 应届毕业生 硕士
长江存储科技有限责任公司 2024-06-18 05:53:23
人关注
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职位描述
该职位还未进行加V认证,请仔细了解后再进行投递!
职责描述: 1. 3D NAND ETCH Process develop 2. Process window enlarge 3. New tool evaluation 4. Cycle time reduction and cost down 5. Maintain process and make it stable 任职要求: 1. Master at least and more than 3 years’ experience of ETCH process engineer or process develop engineer, 3D NAND ETCH process related experience preferred 2. At least good at one type of plasma etch process such as poly etch, oxide etch, metal etch, Bev etch, dry strip, etc
联系方式
注:联系我时,请说是在今日招聘网上看到的。
工作地点
地址:武汉洪山区武汉东湖新技术开发区未来三路88号
以担保或任何理由索取财物,扣押证照,均涉嫌违法,请提高警惕

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